在对回转窑所进行的模拟控制操作中，要想对其内部的液雾颗粒相进行操控，我们就必须确定液滴的蒸发速度。
        在回转窑内，液雾一般是身处于流动的状态中的，并且液滴的四周还属于强迫对流环境,在此种环境中，液滴周围的球对称流将不再存在。为了对回转窑内的液雾流动进行更加详细的分析，并清除窑内不同因素内其蒸发率产生的影响，我们在实际的操作中会采用“折算薄膜”的方法来进行分析。在不考虑回转窑煅烧过程中的蒸发以及煅烧情况下，假设液滴的四周有一恰当厚度的球形气层，通常被我们称作驻膜，其内部的球对称所产生的导热与物料煅烧时其对流换热是相等的。然后我们在研究在此驻膜内的球对称蒸发以及燃烧。采取以上的方法所进行的回转窑单个液滴的蒸发速率的计算，可以被我们用来计量在此过程中能力以及组分的扩散，从而获得液滴的蒸发速率的热工。
        在计量了回转窑内液滴的蒸发速率后，我们就可以注于窑内物料及其他设备的煅烧，并随时为煅烧过程中出现的不同问题进行记录，以后期实验的进行做充分的准备。回转窑相关煅烧操作可以随时拨打热线电话咨询：0371-55018888